- b)
- Abwasser aus maschinellen Reinigungsvorgängen von Maschinen, Anlagen und Druckformen mit Druckfarbenanhaftungen bei gleichzeitigem Einsatz von Reinigungschemikalien,
- c)
- kupferhaltige Negativplattenentwickler,
- d)
- Feuchtwasser;
- 4.
- Bereich Durchdruck
- a)
- Abwasser aus Reinigungs- oder Entschichtungsvorgängen bei Verwendung schwermetallhaltiger Einsatzstoffe (Ausnahme Kupfer aus Phthalocyaninpigmenten),
- b)
- Abwasser aus Reinigungs- oder Entschichtungsvorgängen bei gleichzeitigem Einsatz von Kohlenwasserstoffen, Halogenkohlenwasserstoffen oder Aktivchlor,
- c)
- Abwasser aus der Herstellung von Metallsieben.
- B
- Allgemeine Anforderungen
- 1.
- Verlängerung der Standzeit von Prozesslösungen durch Mehrfachnutzung oder Kreislaufführung über Regenerations- oder Reinigungsstufen,
- 2.
- Trennung und Behandlung wässriger und lösemittelhaltiger Teilströme im Tiefdruck,
- 3.
- Vermeidung von Spülwasser durch Rückführung in die Arbeitsbäder im Tiefdruck,
- 4.
- getrennte Erfassung und Verwertung von Anwärmwasser im Tiefdruck,
- 5.
- Einsparung von Spülwasser bei der Bearbeitung von Druckformen im Flach- und Durchdruck mittels geeigneter Verfahren wie Kaskadenspülung und Kreislaufspültechnik.
- 1.
- organische Komplexbildner, die einen DOC-Abbaugrad nach 28 Tagen von weniger als 80 Prozent entsprechend dem Verfahren nach Anlage 1 Nummer 406 erreichen,
- 2.
- Betriebs- und Hilfsstoffe, die Chlor oder Chlor abspaltende Stoffe enthalten sowie organisch gebundene Halogene aus Löse-, Wasch- und Reinigungsmitteln,
- 3.
- Arsen, Quecksilber, Cadmium und deren Verbindungen sowie blei- oder chromhaltige Farbpigmente mit Ausnahme von Blei, Cadmium und deren Verbindungen aus Farbpigmenten bei keramischem Siebdruck,
- 4.
- organische Lösemittel aus der Textilfeuchtwalzenreinigung im Flachdruck sowie
- 5.
- bei der Entleerung von Verpackungen, Gebinden, Vorlagebehältern anfallende Reste an Einsatzchemikalien, Farben oder Hilfsmitteln.
- C
- Anforderungen an das Abwasser für die Einleitungsstelle