3.4
genetisch modifizierte Mikroorganismen wie folgt:
a)
genetisch modifizierte Mikroorganismen oder genetische Elemente, die Nukleinsäuresequenzen enthalten, welche mit der Pathogenität der in Unternummer 3.1 Buchstabe a, b oder c oder Unternummer 3.2 oder 3.3 genannten Organismen assoziiert sind,
b)
genetisch modifizierte Mikroorganismen oder genetische Elemente, die eine Nukleinsäuresequenz-​Kodierung für eines der in Unternummer 3.1 Buchstabe d genannten Toxine enthalten.
4.
Einrichtungen oder Geräte, die eigens dazu bestimmt sind, die in Nummer 3 genannten biologischen Kampfmittel für militärische Zwecke zu verwenden, sowie Teile oder Baugruppen, die eigens zur Verwendung in einer solchen Waffe bestimmt sind.
III. Chemische Waffen
5.A.Toxische Chemikalien (Registriernummer nach Chemical Abstracts Service; CAS-Nummer)
  a)O-Alkyl(<=C(tief)10 einschließlich Cycloalkyl)-alkyl-(Me, Et, n-Pr oder I-Pr)-phosphonofluoride, zum Beispiel: 
   Sarin: 
   O-Isopropylmethyl-phosphonofluorid(107-44-8),
   Soman: 
   O-Pinakolylmethyl-phosphonofluorid(96-64-0),
  b)O-Alkyl(<=C(tief)10 einschließlich Cycloalkyl)-N,N-dialkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphoramidocyanide, zum Beispiel: 
   Tabun: 
   O-Ethyl-N,N-dimethyl-phosphoramidocyanid(77-81-6),
  c)O-Alkyl(H oder <=C(tief)10 einschließlich Cycloalkyl)-S-2-dialkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-aminoethylalkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphonothiolate sowie entsprechende alkylierte und protonierte Salze, zum Beispiel: 
   VX: 
   O-Ethyl-S-2-diisopropylaminoethylmethyl-phosphonothiolat(50782-69-9),
  d)Schwefelloste: 
   2-Chlorethylchlormethylsulfid(2625-76-5),
   Senfgas: 
   Bis-(2-chlorethyl)-sulfid(505-60-2),
   Bis-(2-chlorethylthio)-methan(63869-13-6),
   Sesqui-Yperit (Q): 
   1,2-Bis-(2-chlorethylthio)-ethan(3563-36-8),
   1,3-Bis-(2-chlorethylthio)-n-propan(63905-10-2),
   1,4-Bis-(2-chlorethylthio)-n-butan(142868-93-7),
   1,5-Bis-(2-chlorethylthio)-n-pentan(142868-94-8),
   Bis-(2-chlorethylthiomethyl)-ether(63918-90-1),
   O-Lost: 
   Bis-(2-chlorethylthioethyl)-ether(63918-89-8),
  e)Lewisite: 
   Lewisit 1: 
   2-Chlorvinyldichlorarsin(541-25-3),
   Lewisit 2: 
   Bis-(2-chlorvinyl)-chlorarsin(40334-69-8),
   Lewisit 3: 
   Tris-(2-chlorvinyl)-arsin(40334-70-1),
  f)Stickstoffloste: 
   HN1: 
   Bis-(2-chlorethyl)-ethylamin(538-07-8),
   HN2: 
   Bis-(2-chlorethyl)-methylamin(51-75-2),
   HN3: 
   Tris-(2-chlorethyl)-amin(555-77-1),
  g)BZ: 
   3-Chinuclidinylbenzilat(6581-06-2).
 B.Ausgangsstoffe
  a)Alkyl(Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphonsäuredifluoride, zum Beispiel: 
   DF: 
   Methylphosphonsäuredifluorid(676-99-3),
  b)O-Alkyl(H oder <=C(tief)10 einschließlich Cycloalkyl)-O-2-Dialkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-aminoethylalkyl (Me, Et, n-Pr oder i-Pr)-phosphonite und entsprechende alkylierte und protonierte Salze, zum Beispiel: 
   QL: 
   O-Ethyl-O-2-diisopropylaminoethylmethyl-phosphonit(57856-11-8),
  c)Chlor-Sarin: 
   O-Isopropylmethylphosphonochlorid(1445-76-7),
  d)Chlor-Soman: 
   O-Pinakolylmethylphosphonochlorid(7040-57-5).
6.
Einrichtungen oder Geräte, die eigens dazu bestimmt sind, die in Nummer 5 genannten chemischen Kampfstoffe für militärische Zwecke zu verwenden, sowie Teile oder Baugruppen, die eigens zur Verwendung in einer solchen Waffe bestimmt sind.
Teil B
Sonstige Kriegswaffen