8.
Verzicht auf den Einsatz von Fotoresistlacken für fotolithografische Prozesse, in denen per- oder polyfluorierte Verbindungen (PFC) enthalten sind; kann auf den Einsatz dieser Lacke nicht verzichtet werden, so sind die Einsatzmenge in der Produktion und die Schadstofffracht im Abwasser entsprechend den technischen Möglichkeiten zu reduzieren,
9.
Verzicht auf den Einsatz von Organosulfiden in der Abwasserbehandlung; kann auf den Einsatz von Organosulfiden nicht verzichtet werden, so ist die Einsatzmenge zu minimieren und sind gegebenenfalls im Abwasser vorhandene Überschüsse vollständig zurückzuhalten durch Rückfällung mit Metallsalzen oder mit anderen geeigneten Mitteln.
(2) Die Einhaltung der Anforderungen nach Absatz 1 ist in einem betrieblichen Abwasserkataster nach Anlage 2 Nummer 1 zu dokumentieren.


An das Abwasser werden für die Einleitungsstelle in das Gewässer folgende Anforderungen gestellt:
Qualifizierte Stichprobe oder
2-Stunden-Mischprobe
Aluminiummg/l2,0
Organisch gebundener Kohlenstoff, gesamt (TOC)mg/l20
Chemischer Sauerstoffbedarf (CSB)mg/l60
Biochemischer Sauerstoffbedarf in 5 Tagen (BSB)mg/l15
Fluorid, gelöstmg/l30
Phosphor, gesamtmg/l1,0
Ammoniumstickstoff (NH-N)mg/l10
Nitritstickstoff (NO-N)mg/l2,0
Eisenmg/l3,0
Abfiltrierbare Stoffe
(suspendierte Stoffe)
mg/l15
Giftigkeit gegenüber Fischeiern (G)2


An das Abwasser werden vor der Vermischung mit anderem Abwasser folgende Anforderungen gestellt: