<P>(1) Zur Identifizierung oder Veranschaulichung der Topografie sind folgende Unterlagen einzureichen: <DL Font="normal" Type="arabic"><DT>1.</DT><DD Font="normal"><LA Size="normal">Zeichnungen oder Fotografien von Layouts zur Herstellung des Halbleitererzeugnisses,</LA></DD> <DT>2.</DT><DD Font="normal"><LA Size="normal">Zeichnungen oder Fotografien von Masken oder ihren Teilen zur Herstellung des Halbleitererzeugnisses oder</LA></DD> <DT>3.</DT><DD Font="normal"><LA Size="normal">Zeichnungen oder Fotografien von einzelnen Schichten des Halbleitererzeugnisses.</LA></DD> </DL> </P><P>(2) Ergänzend zu den in Absatz 1 genannten Unterlagen können Datenträger oder Ausdrucke davon oder das Halbleitererzeugnis, für dessen Topografie Schutz beantragt wird, oder eine erläuternde Beschreibung eingereicht werden.</P>